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按薄膜的成型方法分类：有挤出塑化、然后吹塑成型的薄膜，称为吹塑薄膜；经挤出塑化，然后熔融料从模具口流延成型的薄膜，称为流延薄膜；在压延机上由几根辊筒辗压塑化原料制成的薄膜，称为压延薄膜。

三氧化二钇

名称：钇（Y）

三氧化二钇，（Y2O3）使用电子枪蒸镀，该材料性能随膜厚而变化，在500nm时折射率约为1.8，用作铝保护膜极其受欢迎，特别相对于800-12000nm区域高入射角而言，可用作眼镜保护膜，且24小时暴露于湿气中，一般为颗粒状和片状。

透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 蒸气成分

250--8000 1.79 2300--2500 电子枪 防反膜，铝保护膜 次数用完API KEY 超过次数限制

iO2/SiO2制程中都使用300EV的驱动电压，目的是在两种材料中都使用无栅极离子源，这样避免每一层都改变驱动电压，驱动电压高低的选择取决于TiO2所允许的范围，而蒸着速度的高低取决于完全致密且无吸收膜所允许之范围. TiO?用于防反膜，分光膜，冷光膜，滤光片，高反膜,眼镜膜，热反射镜等，黑色颗粒状，熔点：1175℃

透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量

400--12000 2.35 2000-2200 电子枪，防反膜，增透 多

TiO2用于防反膜，装饰膜，滤光片，高反膜

Ti2O3用于防反膜 滤光片 高反膜 眼镜膜 次数用完API KEY 超过次数限制

沉积技术以气相沉积法为主，按原理可分为化学气相沉积法和物***相沉积方法两大类。

PVD法相对于CVD方法有独特的优势，因此在金属多层膜的制备过程中，大多采用PVD方法。

PVD方法可呈现多种不同形式，如真空蒸发沉积、溅射沉积、离子束和离子束辐照沉积、分子束外延沉积、脉冲激光沉积、离化团簇束沉积、脉冲电弧沉积等。

市场上的薄膜品种很多，但常用的印刷膜有BOPP，NY，PET，PE。就印刷而言，重要的当然是薄膜的表面处理效果，NY膜是否受潮。印刷时应该制定对膜的表面张力一个膜卷一测的工艺要求。 次数用完API KEY 超过次数限制

影响收缩应力的因素主要有两个方面：一是材料的性质，如弹性模量、树脂基质、无机填料的量、直径等；二是充填的过程，如洞形因素、修复技术、固化速度、黏结剂厚度等。

材料性质

树脂的弹性模量越大，收缩应力越大，反之较小。但树脂的弹性模量过小，将会影响修复体的硬度和耐磨性。树脂基质中双酚A双烯酸缩水甘油酯（BIS-GMA）、稀释单体双酸二缩醇酯（TEGDMA）的含量也影响到树脂的收缩应力，随TEGDMA / BIS-GMA比值的收缩应力增大。树脂无机填料的种类和用量也会影响收缩应力。 次数用完API KEY 超过次数限制